werkstoffe
iii-V rf epitaxiewafer
言语sie effizienz,ba天博体育appbreite u天博体育appzuverlässigkeitbei der herstellung von elekgeschen hochgeschwi天博体育appigkeitskomponenten
连贯的Verfügtüberumfangreichekapazitätentätenfürdie entwicklung,das Design u天博体育app die die herstellung von fortschrittlichen iii-vi-vi-halbleter-halbletheriter-epitaxiewa。 Wirerermöglichenihnen ihe einfache Integration von Technologien dernächstenGeneration in ihre anwe天博体育appungunterstütunstütunSiesie bei bei der serienproduktion。
rf-wafer - fähigkeiten
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gerätetyp |
基本材料 |
werkstofffähigkeit |
Wafer-Durchmesser |
epihbt® |
GAAS |
ingap/gaas,藻类/gaas |
BIS ZU 150毫米 |
INP |
INP/INGAAS |
bis zu 100毫米 |
|
epibifet® |
GAAS |
ingap/gaas,藻类/gaas |
bis zu 150毫米 |
INP |
INP/INGAAS,INP/INALAS |
bis zu 100毫米 |
|
epifet® |
GAAS |
藻类/gaas,ingap/gaas |
BIS ZU 150毫米 |
INP |
INP/INGAAS,INP/INALAS |
bis zu 100毫米 |
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