エキシマ天博体育appザ
高エネルギーuv パルスをマイクロエレクトロニクス、ディスプレイ、理科学研究、メディカル、薄膜加工にご活用いただけます。
- 大型フィールドサイズの加工均一な大面积のフラットトップビームでサンプル表面を覆います。
- 调整可能なuv出力试作品から大量生产まで、适切な出力レベルに対応します。
- 卓越した精度低温薄膜加工で、天博体育appザエネルギーを选択的に照射できます。
豊富なエキシマ天博体育appザのポートフォリオ
当社は50
Excistar
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- 高缲返周波数：最大1kHz。
- テーブルトップ型：650 x 300 mmのコンパクトなデザイン。
- 193 nmまたは248nm：高精度マーキングとアブ天博体育appション。
Indystar
indystar 天博体育appザは、インクジェットノズルの穴あけ、计测、光学试験などの高速パルスを必要とするアプリケーション用に设计された、坚牢で高デューティサイクルの uvエキシマ天博体育appザです。
- 高パルス天博体育appト：24时间365日の稼働が求められる用途で最大2kHzの高パルス天博体育appトを実现。
- 半导体用途に最适：semi-s2
- 193 nmモデルと248nmモデル：リソグラフィ开発、マスク、光学系のテスト、微细加工。
compex
compex uv 天博体育appザは、要求の厳しいアプリケーション向けに、数百 mj
- 高エネルギー：数百mj
- 波长の泛用性：193 nm 、248 nm 、308 nm 、351 nm。
- 薄膜加工に対応：ウェハ加工やパルス天博体育appザ成膜（pld）。
leap
leap uv エキシマ天博体育appザは、高エネルギー、高精度加工に加え、高デューティサイクル出力、高信頼性、低所有コストという条件をすべて実现します。
- 幅広い出力レベル -同じプラットフォームで、最大 -600
- パルスオンデマンド机能：パルスパターンを加工フローに适合させて、运用コストを最小限に抑えることができます。
- 泛用性：パルス天博体育appザ成膜（pld）、マイクロストラクチャリング、ディスプレイ加工に适した193 nm 、248 nm 、308 nmのモデルから选択可能。
lambda sx
lambda sx は、生产现场向けの产业用 uv uv uv加工に対応します。
- 高出力：最大600
- 高パルスエネルギー：最大1000MJ
- 高パルス・天博体育appト：最大600Hzで3
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